Руководство по выбору полировальных полотен для химико-механической полировки (ХМП) для всех основных процессов в полупроводниковом производстве от JEEZ.
1. Роль полировального полотна в процессе ХМП
Полировальное полотно является физическим интерфейсом между суспензией и полупроводниковой пластиной, однако, он является не просто пассивным носителем. Механические свойства полотна определяют, насколько равномерно давление полировки распределяется по пластине; текстура его поверхности влияет на эффективность транспортировки и удержания суспензии в зоне контакта; а отклик на кондиционирование определяет стабильность скорости удаления материала на протяжении всего срока службы.
В процессе ХМП полотно и суспензия работают как неделимая система. Отлично подобранная суспензия в паре с неподходящим полотном покажет результаты хуже, чем потенциал каждого компонента в отдельности. И наоборот, тщательно разработанный состав суспензии может быть испорчен застекленным, изношенным или неправильно кондиционированным полотном. По этой причине подбор полировального полотна всегда должна проводиться совместно с выбором суспензии.
Основной принцип: Полировальное полотно контролирует то, как именно суспензия взаимодействует с пластиной. Твердость полотна отвечает за общую эффективность полировки; текстура поверхности — за скорость удаления и равномерность; кондиционирование — за стабильность скорости процесса во времени. Одновременное обеспечение всех трех факторов — главная задача инженера-технолога.
2. Материалы и конструкция полотен
Подавляющее большинство серийных полотен для ХМП изготавливаются из полиуретана. Механические свойства этого полимера (модуль упругости, твердость, вязкоупругость) можно прецизионно настраивать путем подборахимического состава, для соответствия требованиям конкретного процесса. Полиуретановые полотна производятся методом отливки полимера в листы с последующей вырубкой под нужный размер планшайбы (обычно 20–22 дюйма в диаметре для оборудования под 300-мм пластины).
Закрытопористые и открытопористые структуры
Стандартные полиуретановые полотна имеют закрытопористую микроструктуру. Она создается путем внедрения полых микросфер (обычно из полиметилметакрилата, ПММА, или методом химического вспенивания) в полимерную матрицу во время отливки. Эти поры выполняют две важные функции: снижают эффективный модуль упругости поверхностного слоя полотна, улучшая равномерность контакта с поверхностью; и, по мере кондиционирования и истирания полотна, новые открывающиеся поры непрерывно обновляют текстуру поверхности, поддерживая способность удерживать и транспортировать суспензию.
Размер, плотность и распределение пор жестко контролируются при производстве. Крупные поры и высокая плотность пор создают более мягкое, податливое полотно с лучшим удержанием суспензии, но более низкой эффективностью планаризации. Мелкие и плотные поры дают твердое полотно с отличной планаризацией, но худшим удержанием суспензии и потенциально более высоким уровнем дефектов.
Фетровые / пропитанные полотна
Другая категория полотен использует нетканую фетровую структуру, пропитанную полиуретаном. Они значительно мягче и податливее литых полиуретановых аналогов. Их применяют в основном в качестве подложек (суб-полотен) в двухслойных конфигурациях или в качестве финишных полотен для улучшения качества поверхности (баффинг). Высокая податливость позволяет им точно повторять локальный рельеф поверхности, что помогает удалять дымку (haze) и легкие дефекты, но делает их непригодными для глобальной планаризации.
3. Компромисс твердости: планаризация против дефектов
Твердость является самым критичным параметром при выборе полотна. Здесь заложено фундаментальное противоречие процесса ХМП: та же жесткость, которая обеспечивает превосходную глобальную планаризацию, ведет к росту плотности микроцарапин.
Твердые полотна (н/п класс IC1000)
Мягкие полотна (н/п класс Politex / SUBA)
Твердость: 55–65 по Шору D
Твердость: 30–50 по Шору A
Высокая эффективность глобальной планаризации
Высокая прилегаемость к локальному и глобальному рельефу поверхности
Отличная равномерность в пределах пластины на выступающих элементах рельефа
Низкое контактное напряжение => меньше царапин, выше качество поверхности
Меньшее соответствие местному рельефу(имеет низкую конформность к локальной топографии) — уменьшает “дишинг” (нежелательное избыточное вымывание и прогиб мягкого металла (например, меди) внутри соединительных)
Низкая эффективность планаризации -сильный “дишинг” (образование углублений) на широких элементах
Высокое контактное напряжение на выступах поверхности => повышенный риск царапин
Предпостительнее для: финишный этап полировки меди (баффинг), финальная полировка поверхности
Решением этого компромисса в реальном производстве стал двухстадийный (двухплатформенный) подход: на первой планшайбе используется твердое полотно для быстрого удаления основной массы материала и планаризации, а на второй — мягкое полотно для короткой финишной полировки, которая устраняет дефекты от первой стадии, не ухудшая общую геометрию. Это стандарт для медных модулей ХМП на передовых фабриках.
4. Геометрия канавок и транспортировка суспензии
На поверхности полотен формируется рельеф из канавок. Они необходимы для равномерного распределения суспензии и ее подачи в зону контакта полотна с пластиной. Без канавок суспензия скапливалась бы в центре, вызывая голодание периферийных зон и катастрофическую неравномерность скорости полировки по радиусу.
Распространенные типы канавок:
Концентрические кольца: Простые круглые канавки. Обеспечивают эффективное распределение суспезии по радиусу, но ограничены в круговом перемешивании. Самый частый выбор для полировки оксидов и STI.
Сетка X-Y (перфорация): Квадратная или прямоугольная сетка. Дает превосходное распределение суспензии во всех направлениях и эффективно отводит побочные продукты реакции. Предпочтительна для ХМП меди.
Спираль: Непрерывная спиральная канавка от центра к краю. Сочетает свойства кольцевых и сеточных канавок, гарантируя плавное и постоянное обновление суспезии. Используется в некоторых процессах полировки вольфрама и барьерных слоев.
Радиальные канавки: Идут от центра к краям. Способствуют центробежному ускорению потока суспензии. Могут вызывать окружную неравномерность, если не дополнены другими элементами геометрии.
Ширина и глубина канавок также важны: широкие и глубокие канавки служат хорошим резервуаром для суспензии и позволяют использовать большие скорости потока, но уменьшают эффективную площадь контакта (рабочую поверхность полотна), что может снизить скорость удаления материала. Типичная ширина канавки составляет 0.5–1.5 мм, глубина — 0.4–1.0 мм.
5.Сравнительная таблица типов полировальных полотен для CMP
Тип полотна
Конструкция
Твердость
Планаризация
Риск дефектов
Типичное применение
Класс IC1000 (твердое)
Литой полиуретан, закрытые поры
Шор D 58–65
Отличная
Средний–Высокий
Оксид ILD, STI, вольфрамовые пробки, основной этап меди
Кондиционирование — это процесс механического выравнивания и текстурирования поверхности полотна с помощью диска с алмазным напылением во время или между циклами полировки пластин. Без этой процедуры скорость удаления материала падает на 20–40% уже после первых 10–20 пластин из-за эффекта «застекления» (glazing).
Механизм застекления
В процессе полировки механический контакт и тепло от трения заставляют микровыступы полиуретана пластически деформироваться и сглаживаться. Одновременно с этим поры забиваются продуктами реакции и сошлифованным материалом. В результате шероховатость падает, полотно становится гладким и блестящим, а скорость полировки резко снижается.
Диски для алмазного кондиционирования
Диск представляет собой металлическую основу с закрепленными на ней алмазными зернами (размером 100–500 мкм). Он совершает развертку по поверхности полотна с заданным усилием прижима (обычно 2–6 фунтов). Крупное зерно работает агрессивнее и поддерживает высокую скорость съема, но создает больше шлама износа. Мелкое зерно кондиционирует деликатнее и используется там, где критично минимизировать дефекты.
Сравнение методов кондиционирования
In-situ (в процессе): Проводится одновременно с полировкой пластины — диск обрабатывает одну зону полотна, пока пластина полируется в другой. Это стандарт индустрии, обеспечивающий постоянную стабильность шероховатости.
Ex-situ (между циклами): Выполняется на холостом ходу планшайбы между проходами пластин. Метод более щадящий, применяется для первичной притирки новых полотен или в критичных к дефектам процессах.
7. Управление сроком службы полотен
Срок службы измеряется количеством прошедших пластин или чистым временем полировки. Замена должна происходить строго по графику до того, как параметры выйдут за рамки спецификации, но и преждевременная замена ведет к неоправданным затратам.
Контроль толщины: Полотна имеют лимит минимальной толщины (обычно 50% от исходной). Мониторинг осуществляется с помощью встроенных оптических датчиков или ручных замеров.
Анализ трендов скорости удаления: построение контрольной карты статистического управления процессами (SPC) для средней скорости съема на партию пластин в зависимости от срока службы полировальника позволяет выявить тренды деградации характеристик,
которые предсказывают приближение окончания срока службы до того, как подушка фактически выйдет за пределы технических условий.
Замена кондиционирующих дисков: Износ самого алмазного диска напрямую влияет на качество кондиционирования полотна. Интервалы его замены должны четко соблюдаться.
Правильное хранение: Новые полотна должны храниться исключительно в горизонтальном положении в прохладном и сухом месте. Хранение на ребре или в стопках вызывает необратимые геометрические искажения.
8. Многослойные полотна и полотна с фиксированным абразивом
Двухслойные стеки (Two-Layer Pad Stacks)
Такая конструкция совмещает верхний рабочий слой из твердого закрытопористого полиуретана и мягкую сжимаемую подложку под ним. Подложка выступает амортизатором: она нивелирует микронеровности самой планшайбы станка и помогает верхнему твердому слою плотнее и равномернее прилегать к пластине. Это компромиссное решение обеспечивает глобальную планаризацию на уровне твердого полотна, но сглаживает пиковые контактные напряжения, уменьшая число царапин. Такие системы доминируют в процессах создания медных межсоединений по технологии двойного дамаскина.
Полотна с фиксированным абразивом (Fixed-Abrasive Pads)
В этих полотнах частицы абразива изначально закреплены внутри трехмерной полимерной матрицы на поверхности, что позволяет проводить полировку без использования стандартных суспензий со свободным абразивом (используется только химический раствор). По мере износа рельефа обнажаются новые слои свежих микрочастиц. Это минимизирует количество крупных конгломератов частиц в зоне полировки и резко снижает дефектность, что крайне выгодно для процессов STI. Главные недостатки — высокая стоимость расходников и сложность процесса кондиционирования для первичной активации слоя.
9. Краткое руководство по выбору под задачи
При подборе оптимальной конфигурации инженеры всегда ищут баланс между скоростью съема, планаризацией, дефектами и стоимостью эксплуатации:
Для диэлектриков (ILD, STI) и Вольфрама (W): Выбирайте твердые закрытопористые полотна (типа IC1000) с концентрическими канавками для достижения максимальной плоскостности.
Для Медных модулей (Cu Dual-Damascene): Используйте многослойные (стековые) полотна с геометрией канавок в виде X-Y сетки на основном этапе удаления, с обязательным переходом на мягкое фетровое полотно на стадии финишного баффинга.
Jeez производит жесткие, мягкие и многослойныеполировлаьники для ХМП (химико-механической полировки), которые подходят для изоляции межслойного диэлектрика (ILD) оксида, щелевой изоляции элементов (STI), двухстадийных медных дамасских структур, а также для передовых технологий корпусирования. Доступна индивидуальная геометрия и размеры канавок.
Для технической поддержки или заказа, пришлите ваш запрос на sales@smartmikro.ru