Легирующая примесь;Ориентация;Удельное сопротивление: реактор; Диаметр; Тип; Уд.сопротивление слоя;Отклонение;Толщина слоя; Отклонение;Качество поверхности
P,P+B N,N+:P, As;<100>, <111>;Групповой;100 мм;P/P++, N/N+;4x103 (P:1x102)3 Ом*см;≤ ±3%;3-100 мкм; ≤ ±3%; Без: матовости, царапин,ямок,апельсиновой корки, трещин, вороньих лапок, краевых сколов, загрязнения задней поверхности
P,P+B N,N+:P, As;<100>, <111>;Групповой;125мм;N/N++,N/N+/N+;3-30 Ом*см;≤ ±5%;3-100 мкм;≤ ±3%; Без: матовости, царапин,ямок,апельсиновой корки, трещин, вороньих лапок, краевых сколов, загрязнения задней поверхности
P,P+B N,N+:P, As;<100>, <111>;Групповой;150мм;N/P/P, P/N/N+;30-1000 Ом*см;≤ ±8%;3-100 мкм;≤ ±3%; Без: матовости, царапин,ямок,апельсиновой корки, трещин, вороньих лапок, краевых сколов, загрязнения задней поверхности
P,P+B N,N+:P, As;<100>, <111>;Одиночный;150 мм;P/P++, N/N+;0.3-3 Ом*см;≤ ±2%;0.1-20 мкм;≤ ±2%; Без: матовости, царапин,ямок,апельсиновой корки, трещин, вороньих лапок, краевых сколов, загрязнения задней поверхности
P,P+B N,N+:P, As;<100>, <111>;Одиночный;200 мм;N/N+/N++;3-30 Ом*см;≤ ±4%;0.1-20 мкм;≤ ±2%; Без: матовости, царапин,ямок,апельсиновой корки, трещин, вороньих лапок, краевых сколов, загрязнения задней поверхности